krotka fala

Zgodnie z opinią zawartą w International Technology Roadmap ma nastąpić w ciągu najbliższego dziesięciolecia. Jak będzie wyglądać przejście od litografii 193nanometrowej do 50nanometrowej? Mamy do wyboru trzy możliwości, a każda z nich wiąże się z poważnymi wyzwaniami technicznymi. Pierwsza to 157nanometrowa optyczna litografia, która korzysta ze światła o krótszej fali nie będzie ona różnić się wiele od stosowanej obecnie, choć wyniknie konieczność znalezienia nowego fotorezystu i rozwiązania paru innych problemów. Drugą możliwością jest litografia z projekcją elektronową (EPL, której przykładem jest w USA technologia SCALPEL firmy Lucent. Wraz z nią pojawia się wiele nowych problemów, takich jak utrzymanie czystości masek i zwiększenie wydajności procesu do poziomu zbliżonego to tego, jaki daje litografia optyczna..